本发明公开了一种显示装置及其制造方法,该显示装置包括彼此面对的第一基底和第二基底、设置在第一基底上的感测电极以及设置在第二基底上的分隔件。分隔件随着外力施加到分隔件而连接到感测电极,并具有形成在分隔件的面对感测电极的表面上的凹凸部分。可选择地,分隔件具有导体和容纳导体的槽,导体随着外力施加到导体而接触感测电极。
1.一种显示装置,包括:第一基底和第二基底,彼此面对;像素电极,设置在第一基底上;感测电极,设置在第一基底上,并与像素电极隔开;第一分隔件,设置在第二基底上,并包括绝缘体和导体,绝缘体具有第一槽,导体插入到形成有第一槽的区域中,其中,绝缘体响应外力被压缩,使得导体连接到感测电极,从而使得施加到感测电极的参考电压改变;以及第二分隔件,设置在第二基底上并与第一分隔件隔开,第二分隔件保持第一基底与第二基底之间的间隔。
2.如权利要求1所述的显示装置,其中,第一分隔件和第二分隔件具有相同的高度。
3.如权利要求2所述的显示装置,其中,第二分隔件在其上表面上包括第二槽。
4.如权利要求1所述的显示装置,其中,导体的厚度是第一槽的深度的至少一半。
5.如权利要求1所述的显示装置,还包括共电极,共电极设置在第二基底上,并暴露第一分隔件和第二分隔件。
6.如权利要求5所述的显示装置,其中,共电极和导体包含彼此相同的材料。
7.如权利要求1所述的显示装置,还包括设置在第一基底和第二基底之间的液晶层。
8.一种制造显示装置的方法,包括:在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极;在第二基底上形成绝缘层;将绝缘层图案化,以形成第一分隔件和与第一分隔件隔开的第二分隔件,第一分隔件包括绝缘体,绝缘体具有第一槽;在第一分隔件和第二分隔件上形成导电层,以覆盖第二基底;将导电层图案化,以形成共电极和导体,共电极暴露第二分隔件,导体容纳在第一槽中;将第一基底和第二基底结合在一起,第一分隔件面对感测电极的上表面,并与感测电极的上表面隔开,第二分隔件保持第一基底与第二基底之间的间隔,其中,绝缘体响应外力被压缩,使得导体连接到感测电极,从而使得施加到感测电极的参考电压改变。
9.如权利要求8所述的方法,其中,将绝缘层图案化的步骤还包括在第二分隔件的上表面上形成第二槽。本申请要求于2006年10月31日提交的第10-2006-0106668号韩国专利申请的优先权,由此通过用于各种目的的引用包含该申请,就像在这里完全提出一样。本申请是申请号为200710167070.6、发明名称为“显示装置及其制造方法”专利申请的分案申请。技术领域
本发明涉及一种显示装置及其制造方法。更具体地讲,本发明涉及一种整体形成的显示装置和触摸面板及其制造方法。
背景技术
显示图像的显示装置还可包括触摸面板。通常,触摸面板允许用户用他的手或者物体输入命令,而不需要使用诸如键盘或鼠标的输入装置。当用户接触触摸面板时,显示装置检测触摸面板上的触点,并相应于命令在屏幕上输出图像。因此,触摸面板型显示装置包括触摸面板和显示面板。触摸面板接收来自用户的命令,并检测触点。随后,显示面板相应于命令在屏幕上输出图像。如上所述,由于触摸面板型显示装置包括触摸面板和显示面板,所以显示装置较厚。此外,由于彼此独立地制造触摸面板和显示面板,所以会增加制造成本并会延长制造时间。
发明内容
本发明提供了一种显示装置,在该显示装置中,触摸面板与显示面板一体地形成。本发明还提供了一种制造该显示装置的方法。将在随后的描述中阐述本发明的另外的特征,本发明的另外的特征从描述中将部分地变得清楚,或者可以通过实践本发明而获知。本发明公开了一种显示装置,该显示装置包括:第一基底和第二基底,彼此面对;像素电极,设置在第一基底上;感测电极,在第一基底上与像素电极隔开;第一分隔件,设置在第二基底上。第一分隔件在第一分隔件的面对感测电极的表面上包括凹凸部分,第一分隔件响应外力连接到感测电极。本发明还公开了一种显示装置,该显示装置包括:第一基底和第二基底,彼此面对;像素电极,设置在第一基底上;感测电极,在第一基底上与像素电极隔开;第一分隔件,设置在第二基底上。第一分隔件包含导电聚合物,第一分隔件响应外力连接到感测电极。本发明还公开了一种显示装置,该显示装置包括:第一基底和第二基底,彼此面对;像素电极,设置在第一基底上;感测电极,在第一基底上与像素电极隔开;第一分隔件,设置在第二基底上。第一分隔件包括槽和设置在槽中的导体,导体响应外力连接到感测电极。本发明还公开了一种制造显示装置的方法。在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极。在第二基底上形成第一绝缘层。将第一绝缘层图案化,以形成第一分隔件,第一分隔件在第一分隔件的上表面上具有凹凸部分。在第二基底形成共电极,共电极覆盖第一分隔件的上表面。将第一基底和第二基底彼此结合,第一分隔件面对感测电极的上表面,并与感测电极的上表面隔开。本发明还公开了一种制造显示装置的方法。在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极。在第二基底上形成绝缘层。将绝缘层图案化,以形成具有槽的第一分隔件和与第一分隔件隔开的第二分隔件。在第一分隔件和第二分隔件上形成导电层,以覆盖第二基底。将导电层图案化,以形成共电极和导体,共电极暴露第二分隔件,导体容纳在槽中。将第一基底和第二基底彼此结合,第一分隔件面对感测电极的上表面,并与感测电极的上表面隔开。应该理解的是,上述的总体描述和下面的详细描述都是示例性的和示出性的,并意图提供对所要求保护的本发明的进一步的解释。
附图说明
包括的附图用于提供对本发明进一步的理解,且附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分,附图示出了本发明的实施例,且与描述一起用于解释本发明的原理。图1是示出根据本发明示例性实施例的显示装置的平面图。图2是沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。图3A、图3B、图3C和图3D是示出制造图2中的显示装置的方法的剖视图。图4是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。图5A、图5B、图5C和图5D是示出制造图4中的显示装置的方法的剖视图。图6是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。图7A、图7B和图7C是示出制造图6中的显示装置的方法的剖视图。图8是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。图9A、图9B和图9C是示出制造图8中的显示装置的方法的剖视图。图10是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。图11A、图11B和图11C是示出根据本发明不同示例性实施例的形成在图10中的分隔件中的第一槽的形状的平面图。图12A、图12B、图12C和图12D是示出制造图10中的显示装置的方法的剖视图。
具体实施方式
在下文中,参照附图更充分地描述本发明,本发明的实施例示出在附图中。然而,本发明可以以许多不同的形式实施,且不应该被解释为局限于在此阐述的实施例。相反,提供这些实施例,使得本公开是彻底的,并将把本发明的范围充分传达给本领域技术人员。在附图中,为了清楚起见,会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。附图中相同的标号表示相同的元件。应该理解的是,当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”或者“连接到”另一元件或层时,该元件或层可以直接在该另一元件或层上,或者直接连接到该另一元件或层,或者可存在中间元件或中间层。相反,当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”或者“直接连接到”另一元件或层时,不存在中间元件或中间层。图1是示出根据本发明示例性实施例的显示装置的平面图。参照图1,显示装置包括彼此面对的第一基底100和第二基底200。第一基底100包括栅极线110和数据线140。栅极线110沿着行方向延伸,数据线140沿着列方向延伸。栅极线110和数据线140彼此交叉,从而限定像素区PA。图1示出了一个像素区,但是在显示装置中设置了多条栅极线、数据线和多个像素区。由于所有的像素区PA大体上具有相同的结构和相同的功能,所以下面的描述集中在图1中示出的单个像素区PA上。像素区PA包括薄膜晶体管T、像素电极160和感测电极170。薄膜晶体管T包括栅电极111、源电极141和漏电极142。栅电极111从栅极线110分出,源电极141从数据线140分出,漏电极142与源电极141隔开。像素电极160位于像素区PA中,像素电极160通过第一接触孔h1连接到漏电极142。像素区PA包括与栅极线110和数据线140分开的第一感测线116s和第二感测线146s。第一感测线116s和栅极线110可形成在同一层上,第二感测线146s和数据线140可形成在同一层上。第一感测线116s大体上平行于栅极线110,第二感测线146s大体上平行于数据线140,并与第一感测线116s绝缘。感测电极170与像素电极160隔开,并形成在第一感测线116s和第二感测线146s彼此交叉的区域附近。感测电极170分别通过第二接触孔h2和第三接触孔h3连接到第一感测线116s和第二感测线146s。第二基底200包括共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270。共电极240对应于像素电极160,共电极240可以基本上覆盖第二基底200的整个表面。对应于感测电极170布置第一分隔件250,对应于薄膜晶体管T的沟道区布置第二分隔件270。图2是沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。参照图2,栅电极111形成在第一基底100上,并被栅极绝缘层120覆盖,栅极绝缘层120可覆盖第一基底100。半导体层图案130形成在栅极绝缘层120上,并包括有源图案131和欧姆接触图案132。有源图案131具有沟道区,当薄膜晶体管T工作时在沟道区中形成沟道。欧姆接触图案132被划分成两部分,源电极141和漏电极142分别沿着所述划分的部分形成。源电极141和漏电极142被钝化层150覆盖,钝化层150可覆盖第一基底100。钝化层150包括暴露漏电极142的第一接触孔h1。彼此隔开的像素电极160和感测电极170形成在钝化层150上。光阻挡层图案210形成在第二基底200上。光阻挡层图案210覆盖与薄膜晶体管T对应的区域和像素区PA的边界,光阻挡层图案210阻挡对应的区域中的光的透射。光阻挡层图案210在像素区PA中开口,滤色器220布置在所述开口部分中。滤色器220包括对应于光的三原色的红色、绿色和蓝色滤色器,根据各个像素区PA交替地排列所述滤色器。基于三原色的组合显示颜色图像。保护层(overcoatxa0layer)230形成在光阻挡层图案210和滤色器220上,并使第二基底200的表面平坦化。第一分隔件250形成在保护层230上,并在面对感测电极170的同时与感测电极170隔开。第一分隔件250包括绝缘体,所述绝缘体朝第一基底100突出,且在它的上表面上具有凹凸部分260。共电极240覆盖第一分隔件250并形成在第二基底200上。因为第一分隔件250被共电极240覆盖,所以包括共电极240的第一分隔件250具有导电性。第二分隔件270形成在共电极240上,并在与薄膜晶体管T的沟道区对应的区域中接触第一基底100的表面。第二分隔件270还可位于与栅极线110或数据线140对应的位置。第二分隔件270保持第一基底100和第二基底200之间的间隔。当显示装置工作时,参考电压被施加到第一感测线116s和第二感测线146s。当用户触摸屏幕的一部分以执行特定命令时,与屏幕的被触摸的部分对应的第一分隔件250接触感测电极170。由于第一分隔件250被导电的共电极240覆盖,所以接触部分的电阻值改变。此外,由于感测电极170分别通过第二接触孔h2和第三接触孔h3连接到第一感测线116s和第二感测线146s,所以参考电压在接触部分处改变。因此,可通过检测参考电压的变化来检测屏幕的被用户触摸的部分。当检测到被触摸的部分时,确定用户选择的命令,随后显示对应于该命令的图像信息。为了显示图像信息,栅极信号和数据信号分别被施加到栅极线110和数据线140。栅极信号导通薄膜晶体管T,与数据信号对应的数据电压响应栅极信号被施加到像素电极160。与此同时,共电压被施加到共电极240。根据将要显示的图像信息,在每帧中,数据电压会改变,共电压保持不变。数据电压和共电压之间的差建立第一基底100和第二基底200之间的电场。该电场对设置在第一基底100和第二基底200之间的显示器件(displaymeans)施加影响。显示器件根据显示装置的类型而不同。例如,在液晶显示器中,显示器件是液晶,液晶层300置于第一基底100和第二基底200之间。液晶层300包括液晶,液晶的取向根据电场的强度和方向而改变。穿过液晶层300照射到外部的光的量根据液晶的取向而改变,相应于光的量显示图像。根据上述示例性实施例,因为起触摸面板和显示面板作用的元件设置在第一基底100和第二基底200之间,所以不需要单独的触摸面板。在上述的操作中,第一分隔件250会频繁地接触感测电极170。因为重复接触,所以共电极240会由于重复接触的冲击而与第一分隔件250的表面分离。形成在第一分隔件250中的凹凸部分260可防止共电极240与第一分隔件250分离。即,凹凸部分260可增大共电极240和第一分隔件250之间的接触面积,以防止分离。此外,虽然共电极240会局部地与第一分隔件250分离,但是凹凸部分260的增大的接触面积可允许共电极240继续用于检测接触位置。在这点上,对凹凸部分260的形状没有限制,只要凹凸部分260增大共电极240和第一分隔件250之间的接触面积即可。即,凹凸部分260可具有弯曲的凹部和凸部交替地布置的波纹形形状。此外,凹凸部分260可具有尖锐的线性凹部和凸部交替地布置的锯齿形形状。当第一分隔件250、感测电极170、第一感测线116s和第二感测线146s执行触摸面板的功能时,这些组件没有基于位置的限制。因此,第一分隔件250、感测电极170、第一感测线116s和第二感测线146s可位于与图1和图2中示出的位置不同的位置。例如,第一感测线116s和第二感测线146s可以位于被光阻挡层图案210隐藏的区域中。在这种情况下,像素区PA中挡光部分的面积减小,从而增大了开口率。图3A、图3B、图3C和图3D是示出制造图2中的显示装置的方法的剖视图。参照图3A,在第一基底100上形成栅极导电层,并将栅极导电层图案化,以形成栅电极111。在栅极导电层的图案化工艺过程中,还形成栅极线110和第一感测线116s。随后形成栅极绝缘层120和半导体层图案130。在半导体层图案130上形成数据导电层,并将数据导电层图案化,以形成源电极141和漏电极142。在数据导电层的图案化工艺过程中,还形成数据线140和第二感测线146s。在源电极141和漏电极142上形成钝化层150。在钝化层150上形成透明导电层,并将透明导电层图案化,以形成像素电极160和感测电极170。参照图3B,在第二基底200上形成光阻挡层,并将光阻挡层图案化,以形成光阻挡层图案210。在光阻挡层图案210上形成颜色光致抗蚀剂层,并将颜色光致抗蚀剂层图案化,以形成滤色器220。在光阻挡层图案210和滤色器220上形成保护层230。将感光绝缘层涂覆在保护层230上。随后对感光绝缘层执行曝光和显影工艺,从而形成具有凹凸部分260的第一分隔件250。为了形成凹凸部分260,可对将形成有凹凸部分260的区域执行半色调曝光工艺。下面将详细描述半色调曝光工艺。参照图3C,在第二基底200上沉积透明导电层。透明导电层覆盖第一分隔件250,所以第一分隔件250具有导电性。透明导电层本身对应于共电极240。可选择地,可以蚀刻透明导电层的一部分,以形成共电极240。在这种情况下,可以通过蚀刻工艺使共电极240和覆盖第一分隔件250的部分彼此隔开。在液晶装置中,共电极240可具有通过去除透明导电层的预定区域形成的切口(cutout)。切口将像素区PA划分成多个范围(domain),从而为液晶装置提供了宽视角。在共电极240上涂覆绝缘层,并将绝缘层图案化,从而形成第二分隔件270。第二分隔件270与第一分隔件250隔开。参照图3D,将第一基底100与第二基底200结合,使得第一基底100和第二基底200彼此面对,并在第一基底100和第二基底200之间形成液晶层300。在该结合工艺过程中,调整第一基底100和第二基底200,使得第一分隔件250与感测电极170的上表面隔开。图4是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。参照图4,显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。第一分隔件250和第二分隔件270形成在保护层230上。第一分隔件250在它的表面上具有凹凸部分260,并与感测电极170隔开。第二分隔件270接触第一基底100。共电极240覆盖第一分隔件250,当对共电极240的覆盖第一分隔件250的部分施加外力时,该部分接触感测电极170。此外,共电极240暴露第二分隔件270,而不是覆盖第二分隔件270。因此,第二分隔件270具有绝缘特性。第二分隔件270可由于外部冲击而从一侧到另一侧地摆动,使得第二分隔件270可从它的位置移动,并可接触第一基底100上的导电部分。在这种情况下,由于第一基底100会与第二基底200电短路,所以第二分隔件270可具有绝缘特性以防止这种短路。图5A、图5B、图5C和图5D是示出制造图4中的显示装置的方法的剖视图。参照图5A,可以通过前面的实施例中描述的方法来制造第一基底100,并在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上涂覆感光绝缘层250′,对感光绝缘层250′执行曝光工艺。在曝光工艺过程中,执行半色调曝光工艺。半色调曝光工艺可以利用具有透射部分11、中间透射(intermediatexa0transmitting)部分12和非透射部分13的光掩模10。透射部分11透射光,非透射部分13阻挡光。中间透射部分12部分地透射光。具有中间透射部分12的光掩模可包括缝隙掩模或半色调掩模。缝隙掩模包括形成在中间透射部分12中的多个缝隙,可通过调节缝隙之间的间隔来控制透射光的量。半色调掩模的中间透射部分12包含部分地透射光的材料,可根据材料的组分来控制透射光的量。参照图5B,对感光绝缘层250′执行显影工艺。通过浸渍或喷射方案(scheme)将显影剂设置到第二基底200上来执行显影工艺。显影剂与感光绝缘层250′的被曝光的部分反应,从而去除该部分。在显影工艺过程中,从与透射部分11对应的区域中完全去除感光绝缘层250′。此外,从与中间透射部分12对应的区域中部分地去除感光绝缘层250′,从而形成具有凹凸部分260的第一分隔件250。然而,在与非透射部分13对应的区域中保留感光绝缘层250′,从而形成比第一分隔件250高的第二分隔件270。如上所述,通过利用一个光掩模执行单个曝光工艺,可以同时形成第一分隔件250和第二分隔件270,从而减少了工艺步骤的数量并降低了制造成本。在第二基底200上沉积透明导电层240′,从而覆盖第一分隔件250和第二分隔件270。参照图5C,将透明导电层240′图案化,以形成共电极240。共电极240覆盖第一分隔件250,所以第一分隔件250具有导电性。此外,共电极240暴露第二分隔件270,所以第二分隔件270具有绝缘特性。通过图案化工艺,共电极240可具有通过去除透明导电层240′的预定区域而形成的切口,从而液晶装置可具有宽视角。参照图5D,将第一基底100与第二基底200结合,使得第一基底100和第二基底200彼此面对,并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。在该结合工艺过程中,调整第一基底100和第二基底200,使得第一分隔件250与感测电极170的上表面隔开。图6是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。参照图6,显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。第一分隔件250和第二分隔件270形成在共电极240上。第一分隔件250包含导电聚合物,所以即使第一分隔件250不被共电极240覆盖,第一分隔件250本身也具有导电性。第二分隔件270包含与第一分隔件250的材料不同的材料,并具有绝缘特性。第一分隔件250可包含通过热固化互联的环氧树脂和通过光固化互联的丙烯酰树脂(acrylxa0resin)。此外,第一分隔件250可包含透明的导电聚合物聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸盐(polyethylenexa0dioxythiophene-polystyrenesulfonate)。聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸盐用下面的化学式表示。<化学式>ntent="drawing" img-format="tif" inline="no" orientation="portrait" wi="359"/>在该化学式中,n和n′表示正整数。第一分隔件250具有平坦的上表面,在第一分隔件250上没有形成另外的凹凸部分。这是因为第一分隔件250是导电的,不存在导电部分与第一分隔件250分离的潜在问题。图7A、图7B和图7C是示出制造图6中的显示装置的方法的剖视图。参照图7A,制造第一基底100,在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230和共电极240。在共电极240上形成导电聚合物层,并将导电聚合物层图案化,以形成第一分隔件250。当该导电层具有感光性时,图案化工艺包括对该导电层进行的曝光和显影。另外,在该导电层上可形成光致抗蚀剂层图案,可利用光致抗蚀剂层图案作为蚀刻掩模来蚀刻该导电层。参照图7B,在共电极240上形成绝缘层,并对该绝缘层执行曝光和显影工艺,以形成第二分隔件270。因为第一分隔件250和第二分隔件270包含彼此不同的材料,所以它们通过单独的图案化工艺形成。参照图7C,将第一基底100与第二基底200结合,使得第一基底100和第二基底200彼此面对,并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。图8是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。参照图8,显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。共电极240形成在第一分隔件250和第二分隔件270之间,使得共电极240覆盖第一分隔件250。第一分隔件250包含导电聚合物,并在它的表面上具有凹凸部分260。虽然第一分隔件250导电,但是第一分隔件250可被共电极240覆盖,以增加第一分隔件250的导电性。包括凹凸部分260,使得共电极240的覆盖第一分隔件250的部分不会与第一分隔件250分离。图9A、图9B和图9C是示出制造图8中的显示装置的方法的剖视图。参照图9A,制造第一基底100,在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上形成导电聚合物层,并将导电聚合物层图案化,以形成第一分隔件250。在图案化工艺过程中,可利用缝隙掩模或半色调掩模来执行曝光,使得在第一分隔件250的表面上形成凹凸部分。在第二基底200上沉积透明导电层,从而形成覆盖第一分隔件250的共电极240。参照图9B,在共电极240上形成绝缘层,并将绝缘层图案化,以形成第二分隔件270。因为在形成第一分隔件250之后且在形成第二分隔件270之前形成共电极240,所以在垂直结构中,共电极240位于第一分隔件250和第二分隔件270之间。参照图9C,将第一基底100与第二基底200结合,使得第一基底100和第二基底200彼此面对,并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。图10是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。参照图10,显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230形成在第二基底200上。共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在保护层230上。第一分隔件250包括:绝缘体253,具有第一槽265;导体254,插入到形成有第一槽265的区域中。绝缘体253的上表面接触感测电极170。因为第一槽265的深度d1大于导体254的厚度d2,所以导体254与感测电极170隔开的距离为深度d1与厚度d2之差。然而,当用户按压屏幕时,即,对屏幕施加外力时,绝缘体253被压缩,使得导体254可接触感测电极170。结果,施加到感测电极170的参考电压改变,从而可以检测屏幕上的触摸位置。导体254的厚度d2应当是第一槽265的深度d1的至少一半。如果导体254太薄,则当对导体254施加外力时,导体254不会接触感测电极170。相反,如果导体254太厚,则即使不对导体254施加外力,导体254也会接触感测电极170。可通过同一工艺同时形成第二分隔件270和第一分隔件250。结果,第二分隔件270具有与第一分隔件250的材料相同的材料,且第二分隔件270和第一分隔件250大体上具有相同的高度。第二分隔件270可具有可选的第二槽275。第二槽275减小了第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触面积。在这种情况下,可以获得下面的优点。第二分隔件270会由于外力而从它的位置移动。然而,因为第二分隔件270具有恒定的弹性,所以在去除外力之后,第二分隔件270可以返回到它的初始位置。第二分隔件270的回复力根据第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触部分上的摩擦力而改变。如果该摩擦力较小,则第二分隔件270可以更容易地返回到它的初始位置。该摩擦力随着第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触面积减小而减小。因此,可选的第二槽275减小了该摩擦力,使得第二分隔件270可以更容易地返回到它的初始位置。图11A、图11B和图11C是示出根据本发明不同示例性实施例的形成在图10中的分隔件中的第一槽的形状的平面图。参照图11A、图11B和图11C,第一槽265可具有各种形状,例如圆柱形、十字形、“X”形以及“X”形和十字形的组合。只要第一槽265可以容纳导体254,则第一槽265就可以具有任何形状。如果包括可选的第二槽275,则可选的第二槽275可具有与第一槽265的形状相同的形状。即,只要第二槽275减小了第二分隔件270与第一基底100的表面之间的摩擦力,第二槽275就也可以具有任何形状。图12A、图12B、图12C和图12D是示出制造图10中的显示装置的方法的剖视图。参照图12A,制造第一基底100,在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上形成绝缘层,并将绝缘层图案化,以形成第一分隔件250和第二分隔件270。第一分隔件250包括绝缘体253,绝缘体253在其上部上具有第一槽265。在第二分隔件270的上部上形成可选的第二槽275。因为第一分隔件250和第二分隔件270由绝缘层形成,所以第一分隔件250和第二分隔件270大体上具有相同的高度。如上所述,因为绝缘层被图案化,使得第一分隔件250和第二分隔件270具有相同的高度,所以与执行图案化工艺使得第一分隔件250和第二分隔件270具有彼此不同的高度的情况相比,可以容易地执行该工序。参照图12B,在包括第一槽265和第二槽275的第二基底200上沉积透明导电层240′。参照图12C,将透明导电层240′图案化,以形成共电极240。在图案化工艺过程中,在第一槽265中保留透明导电层240′,从而形成导体254。此外,从第二分隔件270的表面去除透明导电层240′,使得共电极240不覆盖第二分隔件270。参照图12D,将第一基底100与第二基底200结合,使得第一基底100和第二基底200彼此面对,并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。根据上述示例性实施例,该触摸面板型显示装置不需要另外的触摸面板。此外,在用作触摸面板的分隔件中,凹凸部分或凹槽可形成在分隔件的表面上,从而提高了检测触摸部分的能力。对本领域技术人员将清楚的是,在不脱离本发明的精神或范围的情况下,可以对本发明做出各种修改和变化。因此,只要对本发明的修改和变化落入权利要求及其等同物的范围内,本发明就意图覆盖这些修改和变化。